旋涂?jī)x是一種廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、半導(dǎo)體制造、微電子、光學(xué)和生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域的實(shí)驗(yàn)室設(shè)備，用于在基片（如硅片、玻璃片、聚合物片等）表面均勻涂覆液體薄膜（如光刻膠、聚合物溶液、生物材料等）。其核心原理是利用高速旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的離心力，使液體材料均勻鋪展并形成厚度可控的薄膜。

 

一、工作原理

滴液：將液體材料（如光刻膠）滴加到靜止或低速旋轉(zhuǎn)的基片中心。

加速旋轉(zhuǎn)：基片在電機(jī)驅(qū)動(dòng)下高速旋轉(zhuǎn)，離心力使液體材料從中心向外鋪展。

薄膜形成：隨著旋轉(zhuǎn)速度穩(wěn)定，液體材料在基片表面形成均勻的薄膜。

溶劑揮發(fā)（可選）：對(duì)于含溶劑的液體，旋轉(zhuǎn)過程中溶劑揮發(fā)，形成固態(tài)或半固態(tài)薄膜。

 

二、性能優(yōu)化與注意事項(xiàng)

膠液粘度與流量：調(diào)整膠液粘度和滴加量，優(yōu)化薄膜厚度和均勻性。

基片清潔度：旋涂前徹底清潔基片，防止顆粒污染。

旋轉(zhuǎn)速度與時(shí)間：根據(jù)膠液特性和基片尺寸，精確設(shè)置旋轉(zhuǎn)參數(shù)。

環(huán)境控制：保持恒溫恒濕環(huán)境，減少溫度和濕度對(duì)薄膜質(zhì)量的影響。

設(shè)備維護(hù)：定期清潔旋轉(zhuǎn)軸和真空系統(tǒng)，確保設(shè)備長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行。

 

旋涂?jī)x作為薄膜制備的核心設(shè)備，其性能直接影響微納結(jié)構(gòu)的質(zhì)量和功能。隨著半導(dǎo)體、微電子和生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域的快速發(fā)展，旋涂技術(shù)將繼續(xù)向高精度、高效率和智能化方向演進(jìn)。