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隨著微電子技術(shù)和納米技術(shù)的快速發(fā)展，光刻技術(shù)成為了半導(dǎo)體制造和高精度微加工中的核心技術(shù)。尤其是半自動光刻機，憑借其較高的性價比和較為靈活的操作模式，已經(jīng)在許多高精度微加工領(lǐng)域中得到了廣泛應(yīng)用。一、半自動光刻機的工作原理光刻技術(shù)通過利用光敏材料（光刻膠）在紫外光或激光照射下發(fā)生化學(xué)...
激光直寫提高工作量和用戶安全程度激光直寫光刻機是桌面型高分辨率激光光刻系統(tǒng)，它通過固定連續(xù)的375nm或405nm紫外光源在光刻膠或紫外敏感膠中直接刻劃獲得微納結(jié)構(gòu)，直寫面積高達4英寸，特征尺寸（寬度）可達1微米。激光直寫光刻機提供豎直和掃描直寫模式，確保直接軌跡偏離小于100nm，具有電動光學(xué)聚焦系統(tǒng)，提供快速的聚焦功能，從而適合各種厚度襯底的要求，并具有晶圓裝載和卸載系統(tǒng)裝備到襯底室供客戶選配，增強清潔程度，提高工作量和用戶安全程度。激光直寫不僅具有無掩模板直寫系統(tǒng)的靈活...
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