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硅穿孔工藝設(shè)備-光刻機 晶圓和晶圓之間制作垂直導(dǎo)通，實現(xiàn)芯片之間互連的新技術(shù)。能夠使芯片在三維方向堆疊的密度大，芯片之間的互連線短，外形尺寸小，并且大大改善芯片速度和低功耗的性能，使目前電子封裝技術(shù)中引人注目的新技術(shù)。

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無掩膜曝光機-光刻機 美國IMP（Intelligent Micro Patterning,LLC）公司憑借多年的光刻設(shè)備生產(chǎn)經(jīng)驗和多項無掩模曝光技術(shù)，已成為無掩模紫外光刻領(lǐng)域的。國內(nèi)參考用戶較多！

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光刻機/紫外曝光機 該公司是目前世界上早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以優(yōu)秀的技術(shù)、精妙的工藝和良好的服務(wù)，贏得了用戶的青睞。

勻膠機其工作原理是高速旋轉(zhuǎn)基片, 利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上, 厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同, 也和旋轉(zhuǎn)速度及時間有關(guān)。