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負(fù)性光刻膠 （SU-8）-光刻機用 SNR負(fù)性光刻膠，針對微機械加工微電子應(yīng)用，高對比度，環(huán)氧樹脂類負(fù)性光刻膠。 具有垂直側(cè)壁的高縱橫比成像 近紫外（350-400nm）處理 單旋涂膜厚度為1.5至200µm 高度耐化學(xué)性和耐溫度性 與已建立的SU-8光刻工藝兼容

納米壓印-光刻機 緊湊型滾筒納米壓印機 我們的桌面R2P納米打印機是原型設(shè)計，實驗和產(chǎn)品開發(fā)的理想工具。 臺式R2P納米壓印機單元適用于小規(guī)模納米壓印光刻工作。該設(shè)備是快速原型制作、測試和表征結(jié)構(gòu)特性的理想選擇，其中包括使用光固化樹脂和壓印材料。 ?典型應(yīng)用范圍從壓印、片上實驗室到衍射光學(xué)元件和其他納米壓印結(jié)構(gòu)。桌面R2P納米打印機在其受保護的環(huán)境中工作。

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