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隨著微電子技術(shù)和納米技術(shù)的快速發(fā)展,光刻技術(shù)成為了半導(dǎo)體制造和高精度微加工中的核心技術(shù)。尤其是半自動光刻機(jī),憑借其較高的性價比和較為靈活的操作模式,已經(jīng)在許多高精度微加工領(lǐng)域中得到了廣泛應(yīng)用。一、半自動光刻機(jī)的工作原理光刻技術(shù)通過利用光敏材料(光刻膠)在紫外光或激光照射下發(fā)生化學(xué)...
磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下,在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞,使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子;新電子飛向基片,Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶,并以高能量轟擊靶表面,使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中,中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜,而產(chǎn)生的二次電子會受到電場和磁場作用,產(chǎn)生E(電場)×B(磁場)所指的方向漂移,簡稱E×B漂移,其運(yùn)動軌跡近似于一條擺線。若為環(huán)形磁場,則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運(yùn)動,它們的運(yùn)動路徑不僅很長,而且被束縛在靠近靶表...
勻膠機(jī)其工作原理是高速旋轉(zhuǎn)基片,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上,厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同,也和旋轉(zhuǎn)速度及時間有關(guān)。勻膠機(jī)是在高速旋轉(zhuǎn)的基片上,滴注各類膠液,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設(shè)備,膜的厚度取決于勻膠機(jī)的轉(zhuǎn)速和溶膠的黏度。從其原理來說,可以看出選購勻膠機(jī)需要注意的幾個細(xì)節(jié):1、旋轉(zhuǎn)速度轉(zhuǎn)速的快慢和控制精度直接關(guān)系到旋涂層的厚度控制和膜層均勻性。如果標(biāo)示的轉(zhuǎn)速和電機(jī)的實(shí)際轉(zhuǎn)速誤差很大,對于要求精密涂覆的科研人員來說是無法獲...
在許多實(shí)際試驗中,需要使用氣溶膠發(fā)生器,以固定的粒徑分布連續(xù)穩(wěn)定地產(chǎn)生濃度可調(diào)的氣溶膠粒子。氣溶膠主要是用特殊的噴嘴設(shè)計的。壓縮空氣通過一個圓形槽被吹入霧化液體。噴氣口與液體之間的剪切力在所謂的環(huán)形間隙中充分分散,形成微小的氣溶膠粒子,慣性對撞機(jī)體積較大。當(dāng)氣溶膠顆粒返回液體容器時,輸出顆粒尺寸主要分布在0.1到10微米之間。適用于醫(yī)療器械檢驗機(jī)構(gòu)、疾病預(yù)防控制中心、醫(yī)院、制藥企業(yè)、高效過器生產(chǎn)企業(yè)等潔凈室、高效過濾器的檢漏。然而新手在使用儀器時都會遇到一些問題,下面我們來仔...
快速動力學(xué)停流裝置為樣品經(jīng)濟(jì)性設(shè)定了新的標(biāo)準(zhǔn),只需要120微升的樣品進(jìn)行沖洗、裝載和收集數(shù)據(jù),同時進(jìn)行3-4次重復(fù)測量,沖洗和樣品裝入均自動完成,只需將120微升的溶液移到每個樣品杯中,在設(shè)計這種儀器的過程中,我們還增加了新的降噪電路,以改善信號。裝置用于數(shù)據(jù)收集和分析,給予的方便使用和功率,在消耗較少的樣本和較少的時間的同時,為您提供更高質(zhì)量的數(shù)據(jù),可選的機(jī)器人自動取樣器增加了吞吐量甚至更多,以負(fù)擔(dān)每天數(shù)百個樣品的無人值守的停止流動測量??焖賱恿W(xué)停流裝置主要特點(diǎn):1.恒溫...
氣溶膠粒徑譜儀粉塵發(fā)生器能夠分散干燥粉塵和粉末,適用于需要連續(xù)穩(wěn)定高精度生成氣溶膠的應(yīng)用,這些測試氣溶膠通常被用于氣溶膠科學(xué)、過濾器檢驗、工業(yè)加工和*任務(wù)。儀器具有可互換的分散裝置,可以在不同的輸出濃度下分散不同的材料,即使在環(huán)境濕度較高的地方,儀器也能通過壓力蓋保持材料干燥,是一種通用的干粉氣溶膠擴(kuò)散器,其在氣溶膠及粉體科學(xué)、工業(yè)過程和質(zhì)量控制中有廣泛應(yīng)用。干粉和灰塵的擴(kuò)散技術(shù)包含兩個步驟:即向擴(kuò)散器持續(xù)供料;將粉體擴(kuò)散為氣溶膠。氣溶膠粒徑譜儀粉塵發(fā)生器采用電池供電,因此使...
脈沖激光外延制備系統(tǒng)可制備的薄膜包括氮化物、氧化物、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2D材料,還提供相關(guān)系統(tǒng)配件,例如基片加熱裝置、原位監(jiān)測工具,還為您提供標(biāo)準(zhǔn)的薄膜以及材料涂層,例如氧化物涂層、導(dǎo)電薄膜、無定型或納米晶、聚合物、納米鉆石、鉆石涂層以及器件加工。優(yōu)勢:1.靶源易蒸發(fā),即使是高熔點(diǎn)的材料,如氧化物,也很容易蒸發(fā)。2.化學(xué)計量比準(zhǔn)確,沉積的薄膜和靶材的化學(xué)組分幾乎*一樣。3.污染少。4.激光脈沖的重復(fù)頻率可進(jìn)行薄膜厚度/生長速率的數(shù)字式或非連續(xù)性控制。5.差分抽氣...
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